作為晶圓代工行業(yè)中最重要的產(chǎn)品，光刻機的優(yōu)秀與否將決定制程工藝的先進(jìn)性，而目前在EUV領(lǐng)域，毫無疑問ASML成為了絕對的巨頭，幾乎壟斷了EUV光刻機的生產(chǎn)與研發(fā)。廣大晶圓代工巨頭也等待著ASML推出的新一代光刻機來提升自己的代工實力。目前ASML表示自家目前最先進(jìn)的光刻機TWINSCAN EXE：5200即將交付給客戶，從而為2nm等更加先進(jìn)的工藝提供前有力的硬件保證。

ASML目前已經(jīng)確認(rèn)將會在不久之后正式交付新一代的EUV光刻機也就是TWINSCAN EXE：5200，這款光刻機是TWINSCAN EXE：5000的強化版，ASML表示全新的TWINSCAN EXE：5200光刻機最高可以實現(xiàn)每小時185片晶圓的制造，為今后2nm等制程提供堅實的硬件基礎(chǔ)。

ASML稱目前的之前光刻機的孔徑透鏡精度為0.33，而到了TWINSCAN EXE：5200以及TWINSCAN EXE：5000，孔徑透鏡精度達(dá)到了0.55，相比較上一代產(chǎn)品有著極為明顯的提升，不過由于技術(shù)的提升，每一臺光刻機的售價也是達(dá)到了相當(dāng)驚人的程度，據(jù)悉TWINSCAN EXE：5000的單價可以達(dá)到3.5億歐元，相當(dāng)于26.3億人民幣，而TWINSCAN EXE：5200的報價顯然更高。

目前英特爾已經(jīng)宣布將會成為首位采用TWINSCAN EXE：5200光刻機的客戶，用于新一代制程晶圓的制造，就是不知道在采用先進(jìn)光刻機之后，英特爾晶圓代工能否打個翻身仗。